“王凯，你拆卸照明模块的时候注意一下右侧内嵌电板。”
“陈炎，动作放轻些，注意十点钟方向控制器。”
“**安，不要右侧使力，注意别碰到投影物镜系统。”
“……。”
周兴站在边上指挥五人组进行拆卸作业，时不时地出声点出他们的纰漏并加以引导。
经过接二连三‘打击’之后，周兴对光刻机了如指掌的专业能力深深折服了王凯他们。
光刻机是所有微电子装备当中‘龙头老大’，没了它的迅猛发展，电子领域：计算机，智能手机，……，等等智能芯片类电子应用行业绝不可能有这么迅猛的发展。
光刻机进步的重要标志就是它光刻分辨力，光刻机的分辨能力越高，它便能在一块硅芯片内集成越密集的电路，与此同时，随着分辨能力的提升，光刻机内部结构的复杂程度越发恐怖。
2001年第七代光刻机：130纳米；
2005年第八代光刻机：90纳米；
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